-
Polírozott monokristályos szilícium:
Polírozott felület és monokristályos szilícium szerkezete rendkívül alacsony szennyeződés és defektusszámmal a pontos elektromos teljesítmény érdekében.
-
N- és P-típusú modellek:
Vannak N-típusú és P-típusú konfigurációjú wafer-ek, amelyek különböző eszköztervezésekhez alkalmasak.
-
Egyéni feldolgozás:
Ügyfél igényei szerinti testreszabott feldolgozás a gyártási igényekhez igazítva.
-
Ø3–8 hüvelyk átmérő:
3–8 hüvelykes átmérőjű wafer-ek a különböző gyártósorokhoz.
-
Magas feszültségű és optoelektronika:
Főként magas visszacsatolási feszültségű eszközökhöz és optoelektronikai komponensekhez használható.
-
Alacsony szennyezettség:
Magas ellenállás és rendkívül alacsony szennyezőanyag-szint és defektusszám a stabil elektromos működésért.
-
Zónás olvadási technológiák:
Több zónás olvadási módszert támogat (Direct Pull, Neutron Irradiation, Gas Phase Doping) az anyag tulajdonságainak testre szabásához.
