-
Egyoldali polírozás:
Egyoldali polírozott felület sima alapot kínál a további feldolgozáshoz.
-
Kétoldali oxidáció:
Mindkét oldal oxidált 300 nm-ig a passziváció és a feldolgozási lépésekhez.
-
3 hüvelykes wafer:
Kompakt format laboratóriumi kísérletekhez.
-
Magas tisztaságú szilícium:
Magas tisztaságú szilícium érzékeny félvezető alkalmazásokhoz.
-
Testreszabható feldolgozás:
A megrendelés szerint testreszabható feldolgozási opciók.
-
Szilícium alátét:
Megbízható félvezető alátét kutatásokhoz és prototípusokhoz.




